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半導體用正膠顯影液 - 四甲基氫氧化銨含量、碳酸根離子的檢驗

更新日期:2023-10-13   瀏覽量:1332


T/CEMIA 030-2022 半導體用正膠顯影液

范圍
本標準規(guī)定了半導體用正膠顯影液的術(shù)語和定義、縮略語、分類、要求、檢驗方法、檢驗規(guī)則以及標志、包裝、運輸、貯存和安全。
本標準適用于半導體用正膠顯影液,其主要組分為通過季銨鹽化合物電解制得的四甲基氫氧化銨。

術(shù)語和定義
本文件沒有需要界定的術(shù)語和定義。

縮略語
下列縮略語適用于本文件。
PFA:四氟乙烯—全氟烷氧基乙烯基醚共聚物,又稱過氟烷基化物,可溶性聚四氟乙烯。

分類
按照四甲基氫氧化銨的含量進行分類,可分為c-a(四甲基氫氧化銨含量≥20.00%的半導體用正膠顯影液),c-b(四甲基氫氧化銨含量≤5%的半導體用正膠顯影液)。

要求
外觀
無色透明液體。
主要化學成分
半導體用正膠顯影液的主要化學成分應(yīng)符合表1的規(guī)定。
表1.jpg

色度
半導體用正膠顯影液的色度應(yīng)不大于5Hazen單位(Pt-Co色號)。
顆粒數(shù)
半導體用正膠顯影液的顆粒數(shù)應(yīng)符合表2的規(guī)定。
表2.jpg

甲醇
半導體用正膠顯影液的甲醇含量應(yīng)符合表3的規(guī)定。
表3.jpg

陰離子雜質(zhì)含量
半導體用正膠顯影液的陰離子雜質(zhì)含量應(yīng)符合表4的規(guī)定。
表4.jpg

金屬雜質(zhì)含量
半導體用正膠顯影液的金屬雜質(zhì)含量應(yīng)符合表5的規(guī)定。
表5.jpg

表5續(xù).jpg

表面張力
c-b的表面張力指標管控可由供應(yīng)商與客戶協(xié)商決定。

檢驗方法
四甲基氫氧化銨含量
按 SJ/T 11636 的規(guī)定進行。
SJ/T 11636-2016 電子工業(yè)用顯影液中四甲基氫氧化銨的測定 自動電位滴定法

碳酸根離子
按 SJ/T 11635 的規(guī)定進行。
SJ/T 11635-2016 電子工業(yè)用顯影液中碳酸根離子的測定 自動電位滴定法


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